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ISBN 978-4-924728-15-8  

最適 精密洗浄技術

具体的事例をもとにした実務にすぐ役立つ実用書!!

表面清浄度のレベルアップを実現するための精密洗浄技術をわかりやすく解説!!

◆ 編 集 :日立プラント建設(株) クリーンルーム事業部 副技師長
 平塚 豊
:東京家政学院大学 教授
 角田 光雄
:日本シービーケミカル(株) 常務取締役
  間宮 富士雄
◆ 発 刊 :株式会社テクノシステム
◆ 発 行 :1990年2月
◆ 体 裁 :B5判上製本 690頁
◆ 特 価

:9,524円+税 (国内送料弊社負担)

◆ ISBN :978-4-924728-15-8

執筆者(執筆順・敬称略)
泉谷 徹郎 HOYA 顧問
出雲 正矩 ダイキン工業 化学事業部 化工機製造部 部長
斉藤  正 三菱化成 肥料無機事業部 次長
斉藤 次男 関東化学 電子材料事業本部 営業企画部 課長補佐
高市  侃 昭和電工 化学品研究所 副主幹研究員
高橋 幹雄 倉敷紡績 事業化推進部 主任部員
角田 光雄 東京家政学院大学 教授 家政学部
平塚  豊 日立プラント建設 クリーンルーム事業部 副技師長
間宮富士雄 日本シービーケミカル 常務取締役
三木 正博 橋本化成工業 研究部 部長
本村 敬人 栗田工業 装置事業部 技術部 PJチーム
安井 富春 徳山曹達 特品事業部 特機システム営業部
山下 朝朗 関東化学 電子材料事業本部 技術部 部長
渡辺 敬三 倉敷紡績 エンジニアリング部 膜システム課 係長

<総目次>

第1編 精密洗浄技術

第1章 精密洗浄技術の必要性
 1.1 精密洗浄の定義
 1.2 精密洗浄の重要性を増した背景
 1.3 精密洗浄の特徴

第2章 精密洗浄の対象としての汚染
 2.1 汚れの分類
 2.2 汚染状態とその実例
  2.2.1 発生源
  2.2.2 粒子汚れの付着メカニズム
  2.2.3 バクテリア汚染
  2.2.4 元素、イオンによる汚染及び表面欠陥
  2.2.5 有機薄膜状汚染

第3章 洗浄のメカニズムと関連要素
 3.1 洗浄過程の全体的概念
 3.2 粒子汚れの除去メカニズム
 3.3 乳化、ローリングアップ(有機質汚れの除去メカニズム)
  3.3.1 有機質汚れの除去過程の観察結果
  3.3.2 油汚れの除去過程における乳化
 3.4 溶剤による溶解作用
 3.5 機械力
 3.6 紫外線およびプラズマ洗浄技術の基礎
  3.6.1 紫外線/オゾン(UV/O3)洗浄
  3.6.2 プラズマ洗浄

第4章 汚染除去の方法
 4.1 洗浄法の分類
 4.2 湿式物理洗浄
  4.2.1 ブラシスクラビング
  4.2.2 高圧液噴射洗浄
  4.2.3 超音波洗浄
  4.2.4 メガヘルツ超音波洗浄
 4.3 湿式化学洗浄
  4.3.1 粒子除去
  4.3.2 有機汚染膜除去
  4.3.3 無機汚染膜除去
 4.4 乾式洗浄法
  4.4.1 乾式洗浄の必要性
  4.4.2 UV/O3法
  4.4.3 ドライアイススノウ洗浄法
  4.4.4 HF気相洗浄法
  4.4.5 イオンビームスパッタ
  4.4.6 プラズマクリーニング
  4.4.7 レーザークリーニング

第5章 精密洗浄効果の向上
 5.1 高清浄化と経済化
 5.2 最適洗浄システムの設計
 5.3 洗浄力要素の複合適用
 5.4 純水リンス効率の向上
 5.5 環境からの汚染防止

第6章 乾燥技術
 6.1 加熱乾燥の種類と方法
  6.1.1 熱風加熱
  6.1.2 赤外線加熱
  6.1.3 マイクロ波加熱
 6.2 水切り乾燥
 6.3 IPAによる蒸気加熱乾燥
  6.3.1 IPA蒸熱乾燥法
  6.3.2 高純度IPA
 6.4 フロン、エタノールによる蒸気加熱乾燥
  6.4.1 原 理
  6.4.2 エタノール法乾燥システム
  6.4.3 洗浄システム
  6.4.4 洗浄度と管理

第2編 精密洗浄用洗浄剤

第1章 精密洗浄剤としての無機薬品
 1.1 精密洗浄用無機薬品の性状
 1.2 精密洗浄用無機薬品の製法
  1.2.1 硝酸の精製(蒸留法)
  1.2.2 硫酸の精製(直接合成法)
  1.2.3 アンモニア水の精製(精製ガス溶解法)
 1.3 精密洗浄用無機薬品の品質管理
  1.3.1 汚染と防止策
  1.3.2 精密洗浄用無機薬品の分析方法と純度
 1.4 各種精密洗浄用無機薬品の特性と取り扱い注意

第2章 精密洗浄剤としての有機溶剤
 2.1 精密洗浄用有機溶剤の性状
 2.2 精密洗浄用有機溶剤の製法
 2.3 精密洗浄用有機溶剤の品質管理
 2.4 各種精密洗浄用有機溶剤の特性と取り扱い注意

第3章 精密洗浄剤としての界面活性剤
 3.1 界面活性剤の化学
  3.1.1 界面活性剤の種類
  3.1.2 界面活性剤の構造と性質
 3.2 界面作用の物理化学
  3.2.1 表面張力(気−液界面作用)
  3.2.2 接触角(固−液界面作用)
  3.2.3 起泡と消泡
  3.2.4 清浄化の機構
  3.2.5 洗浄と界面作用
 3.3 界面作用の測定と評価
  3.3.1 表面張力の測定
  3.3.2 接触角の測定
  3.3.3 ぬれの評価
  3.3.4 泡の評価
 3.4 エッチング洗浄への界面活性剤効果
  3.4.1 シリコン酸化膜のエッチング洗浄
  3.4.2 ステンレスのエッチング洗浄
  3.4.3 シリコンウエーハの清浄表面

第4章 精密洗浄剤としての超純水
 4.1 水質の現状
 4.2 洗浄水汚れとウエーハ汚染

第5章 精密洗浄剤としての空気・ガス
 5.1 乾式洗浄で使用されるガス
 5.2 乾式乾燥で使用されるガス
 5.3 空 気
 5.4 洗浄に使用されるガスの性質

第3編 精密洗浄の補助システム

第1章 フィルターメディアの種類と特性
 1.1 フィルターの種類と特性
  1.1.1 フッ素樹脂と膜素材の種類
  1.1.2 フィルターデバイスの種類と特性
 1.2 フィルターの応用
  1.2.1 フィルターの選定
  1.2.2 フィルターの前処理
  1.2.3 循環濾過

第2章 半導体工業用薬品自動供給装置とそのシステム
 2.1 薬品自動供給装置の導入と利用技術
  2.1.1 序 論
  2.1.2 装置導入による利点と問題点
  2.1.3 装置の種類
  2.1.4 販売、施工メーカー
  2.1.5 安全対策
  2.1.6 設置場所
  2.1.7 装置の選定条件
 2.2 配管方法
  2.2.1 配管方法
  2.2.2 安全対策
  2.2.3 継ぎ込み方法
  2.2.4 施工の際の注意点
 2.3 関連部品
  2.3.1 薬品用フィルター
  2.3.2 薬品充土眞容器と接続カプラー
 2.4 今後の展開
  2.4.1 作業性
  2.4.2 安全性
  2.4.3 品質向上

第3章 超純水製造技術と水質管理
 3.1 超純水の管理方法
  3.1.1 抵抗率
  3.1.2 微粒子
  3.1.3 生 菌
  3.1.4 有機物
 3.2 超純水製造システム
  3.2.1 前処理システム
  3.2.2 1次純水システム
  3.2.3 2次純水システム
  3.2.4 端末配管システム

第4章 ガス及びボンベの取り扱い
 4.1 可燃性ガスの取り扱い
 4.2 支燃性ガスの取り扱い
 4.3 窒息性ガスの取り扱い
 4.4 毒性・腐食性ガスの取り扱い
 4.5 ボンベの取り扱い
  4.5.1 運 搬
  4.5.2 貯 蔵
  4.5.3 使 用

第5章 クリーンドラフト

第4編 精密洗浄装置

第1章 精密洗浄装置の設計技術
 1.1 洗浄装置の構成
 1.2 洗浄装置の導入手順と設計
 1.3 精密洗浄装置の設計留意点

第2章 精密洗浄の自動化技術
 2.1 洗浄の自動化システム
  2.1.1 洗浄システムの分類と自動化
  2.1.2 マルチステーション・バッチ処理システム
  2.1.3 マルチステーション・個別処理方式
  2.1.4 シングルステーション・バッチ処理方式
  2.1.5 シングルステーション・個別処理方式
 2.2 搬送、ハンドリングの自動化
 2.3 管理の自動化
  2.3.1 洗浄液の調製
  2.3.2 洗浄液組成の維持
  2.3.3 劣化洗浄液の廃棄
  2.3.4 安全監視、動作異常検出
  2.3.5 全プロセスの一貫自動化

第5編 精密洗浄の評価技術

第1章洗浄プロセスの評価
 1.1 微粒子除去率
 1.2 表面汚染除去効果

第2章 主要表面分析法の原理・装置
 2.1 走査型電子顕微鏡
 2.2 微小部X線分析法
 2.3 オージェ電子分光分析法
 2.4 X線光電子分光分析法
 2.5 二次イオン質量分析法

第3章 微粒子計測技術
 3.1 気中微粒子計測
  3.1.1 気中微粒子計測と洗浄
  3.1.2 光散乱式粒子計数器の原理
  3.1.3 光散乱式粒子計数装置の型式と特徴
  3.1.4 測定上の問題
 3.2 液中微粒子計測
  3.2.1 顕微鏡法
  3.2.2 光散乱法
  3.2.3 光遮断法
  3.2.4 超音波散乱法
 3.3 表面付着微粒子計測

第4章 特性測定による評価

第6編精密洗浄技術の応用実例

第1章 半導体への応用
 1.1 シリコン(Si)基板
  1.1.1 粒子状汚染の除去
  1.1.2 金属元素及びイオンの除去
  1.1.3 その他イオンあるいは分子汚染の除去
  1.1.4 酸化膜の除去と湿式エッチング
  1.1.5 乾式洗浄技術の適用
 1.2 ガリウム砒素(CaAs)基板
  1.2.1 化学的処理
  1.2.2 イオン洗浄
 1.3 その他の化合物半導体
  1.3.1 InP
  1.3.2 InSb
  1.3.3 PdTe

第2章 金属表面への応用
 2.1 湿式洗浄
 2.2 乾式洗浄(紫外線/オゾン洗浄)
 2.3 乾式洗浄(プラズマ洗浄)

第3章 ガラス表面への応用

第4章 磁気ディスク、光ディスク、磁気ヘッドへの応用
 4.1 磁気ディスク
 4.2 光ディスク
 4.3 磁気ヘッド

第5章 機構部品への応用
 5.1 真空装置用機器
 5.2 精密ベアリング、バルブ、スイッチおよびリレー
 5.3 磁気ディスク装置部品

第6章 光学部品への応用
 6.1 光学ガラスの研磨面に生じる汚れとその原因
  6.1.1 汚れの種類
  6.1.2 汚れの原因
 6.2 どのようにして汚れを取り除くか
  6.2.1 物理的剥離作用
  6.2.2 化学的溶解作用
  6.2.3 汚れの除去機構
  6.2.4 洗浄装置
  6.2.5 洗浄における光学ガラスの表面劣化−青ヤケと潜傷−

第7章 ユーティリティー関連機器への応用
 7.1 純水配管
 7.2 ガス配管
 7.3 半導体用薬剤容器
 7.4 ボンベ
索引

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