目次|表面・界面工学大系「上巻」基礎編

総目次

第1章 総論-表面・界面とは
第 1 節 表面と界面
第 2 節 表面とバルク
第 3 節 環境と表面(汚れた表面、清浄表面)
第 4 節 機能性表面
第 5 節 泡
第 6 節 自然界の表面
第 7 節 表面の腐食
第 8 節 表面の摩擦
第 9 節 微生物の表面科学
第2章 表面構造
第 1 節 有機の酸化による変性
第 2 節 セラミックスの表面
第 3 節 非晶質合金の表面
第 4 節 触媒の表面
第3章 分子間力と電子状態理論
第 1 節 自然界に存在する4種の力
第 2 節 分子間力の発展の歴史
第 3 節 分子間力の特性
第 4 節 分子間力
第 5 節 分子間力と各種界面現象のパラメータとの相関
第 6 節 量子力学の界面現象への応用
第 7 節 電子状態(分子軌道法を用いた相互作用計算)
第4章 表面・界面の電子状態およびエネルギー
第 1 節 表面準位
第 2 節 原子配列と電子状態
第 3 節 内殻電子のエネルギー状態
第 4 節 電子の殻構造
第 5 節 KLLオージェ
第 6 節 表面ダングリングボンド
第 7 節 界面原子の結合エネルギー
第5章 物質間の相互作用
第 1 節 混合の熱力学(相溶性)と相図
第 2 節 高分子の相溶性と相分離
第 3 節 ぬれの理論
第 4 節 接着の理論
第 5 節 計算化学による相互作用の算出
第 6 節 吸着理論
第 7 節 溶融・拡散
第 8 節 蒸発・気化
第6章 結晶表面
第 1 節 結晶の性質
第 2 節 逆格子と回析
第 3 節 結晶表面とバルク結晶-再構成構造とその表示
第 4 節 二次元格子と逆格子
第 5 節 結晶成長と表面
第7章 表面の励起・照射
第 1 節 表面プラズモン
第 2 節 エキシトン(励起子)
第 3 節 表面ポラリトン
第 4 節 表面における素励起
第 5 節 表面マグノン・表面マグノンポラリトン
第 6 節 表面増強ラマン散乱
第 7 節 ミューオンによる表面解析
第8章 (固体)界面の特性
第 1 節 界面の電子状態
第 2 節 材料と力学的特性
第 3 節 界面の強度
第 4 節 粒界
第 5 節 金属
第9章 界面電気
第 1 節 界面電気とは
第 2 節 界面静電現象
第 3 節 電気二重層の相互作用
第 4 節 ヘトロ凝集
第 5 節 界面動電現象
第 6 節 非水系の界面電気現象
第10章 界面化学材料とその原理
第 1 節 界面活性剤
第 2 節 潤滑剤(固体)
第 3 節 接着剤
第 4 節 塗料
第 5 節 膜分離
第 6 節 防食処理
第 7 節 消臭剤
第 8 節 防湿剤または乾燥剤
第11章 表面薄膜形成の基礎過程
第 1 節 薄膜の成長様式
第 2 節 エピタキシャル成長
第 3 節 LB膜
第12章 粒子系薄膜形成
第 1 節 バイオインターフェースを用いた微粒子パターニング技術
第 2 節 コロイド分散相からの粒子系薄膜形成
第13章 洗浄理論
第 1 節 洗浄の基礎メカニズム
第 2 節 洗浄剤
第 3 節 環境負荷の少ない新洗浄技術
第 4 節 洗浄評価法
第14章 物質の種類と分析法の適用
第 1 節 金属
第 2 節 セラミックス
第 3 節 磁性体
第 4 節 半導体
第15章 分析法各論
第 1 節 顕微鏡
第 2 節 各種表面・界面分析法の原理
第 3 節 界面の種類と分析法の適用
第16章 分析システムの構成と要素機器
第 1 節 X線発生装置
第 2 節 赤外線発生装置
第 3 節 真空システム
第 4 節 レーザーを用いた表面研究
第 5 節 原子核反応を利用する分析
第17章 汎用的分析システムの応用例
第 1 節 オージェ電子分光法(AES)
第 2 節 X線光電子分光法(XPSまたはESCA)
第 3 節 斜入射X線回析法による薄膜構造と表面・界面の評価法
第 4 節 X線CTR散乱法
第 5 節 電子プローブ微小部分析法(電子プローブ・マイクロアナライザー;EPMA)
第 6 節 低速電子回析(LEED)
第 7 節 反射高速電子回析(RHEED)
第 8 節 透過電子顕微鏡(TEM)
第 9 節 走査電子顕微鏡(SEM)
第10節 走査トンネル顕微鏡(STM)
第11節 走査透過電子顕微鏡(STEM)
第12節 反射電子顕微鏡(REM)法
第13節 偏光顕微鏡
第14節 ダイナミックモードAFM
第18章 質量分析法
第 1 節 質量分析法とその原理
第 2 節 質量分析計の種類・特徴
第 3 節 資料導入系
第 4 節 GC-MSとLC-MS(分離装置と結合したMS)
第 5 節 タンデム質量分析法  第 6 節 イオン付着質量分析法
第19章 有機物・無機物の分析例
第 1 節 有機吸着物
第 2 節 セラミックス・高分子
第20章 その他の分析法および測定法
第 1 節 電気的量の測定
第 2 節 力学量の測定
第 3 節 反応性脱離と物理化学測定
第 4 節 幾何学的形状の測定
第 5 節 界面強度の測定
第 6 節 温度の測定
第 7 節 熱分析
第 8 節 NMRおよびESR
第21章 界面電気現象の測定法
第 1 節 電気二重層
第 2 節 電気毛管現象と微分容量
第 3 節 界面動電現象の測定
第 4 節 気液界面の表面電位
第22章 分析のための周辺技術-真空技術
第 1 節 真空と表面分析
第 2 節 真空の基礎
第 3 節 真空用材料
第 4 節 真空度測定
第 5 節 高真空排気システム
第23章 分析のための前処理技術と分析表面への影響
第 1 節 分析のための前処理技術
第 2 節 雰囲気、および建物・装置構成材料からの有機物による固体表面への影響
第24章 表面・界面の設計理論
第 1 節 第一原理計算
第 2 節 STMシミュレーションを用いた表面における吸着構造の解析
第 3 節 化学ポテンシャルを用いた安定性の評価
第 4 節 第一原理計算による表面光学特性の評価